نسبتا advanced اعلی درجے کی پیداوار کے عمل کے ساتھ سیمیکمڈکٹر ویفر فاؤنڈریوں کی تیاری کے عمل میں ، تقریبا 50 مختلف قسم کی گیسوں کی ضرورت ہے۔ گیسوں کو عام طور پر بلک گیسوں میں تقسیم کیا جاتا ہے اورخصوصی گیسیں.

مائیکرو الیکٹرانکس اور سیمیکمڈکٹر صنعتوں میں گیسوں کا اطلاق گیسوں کے استعمال نے سیمیکمڈکٹر کے عمل میں ہمیشہ ایک اہم کردار ادا کیا ہے ، خاص طور پر سیمیکمڈکٹر کے عمل مختلف صنعتوں میں بڑے پیمانے پر استعمال ہوتے ہیں۔ ULSI ، TFT-LCD سے لے کر موجودہ مائکرو الیکٹرو مکینیکل (MEMS) صنعت تک ، سیمی کنڈکٹر کے عمل کو مصنوع کی تیاری کے عمل کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے ، جس میں خشک اینچنگ ، ​​آکسیکرن ، آئن ایمپلانٹیشن ، پتلی فلم جمع ، وغیرہ شامل ہیں۔

مثال کے طور پر ، بہت سارے لوگ جانتے ہیں کہ چپس ریت سے بنی ہیں ، لیکن چپ مینوفیکچرنگ کے پورے عمل کو دیکھتے ہوئے ، زیادہ مواد کی ضرورت ہے ، جیسے فوٹو سسٹ ، پالش مائع ، ہدف مواد ، خصوصی گیس وغیرہ ناگزیر ہیں۔ بیک اینڈ پیکیجنگ میں مختلف مواد کے سبسٹریٹس ، انٹرپوزر ، لیڈ فریم ، بانڈنگ میٹریل وغیرہ کی بھی ضرورت ہوتی ہے۔ سلیکن ویفرز کے بعد سیمیکمڈکٹر مینوفیکچرنگ کے اخراجات میں الیکٹرانک خصوصی گیسیں دوسرا سب سے بڑا مواد ہیں ، اس کے بعد ماسک اور فوٹوورسٹس ہیں۔

گیس کی پاکیزگی جزو کی کارکردگی اور مصنوعات کی پیداوار پر فیصلہ کن اثر و رسوخ رکھتی ہے ، اور گیس کی فراہمی کی حفاظت اہلکاروں کی صحت اور فیکٹری آپریشن کی حفاظت سے متعلق ہے۔ گیس کی پاکیزگی کا عمل لائن اور اہلکاروں پر اتنا بڑا اثر کیوں پڑتا ہے؟ یہ مبالغہ آرائی نہیں ہے ، بلکہ اس کا تعین خود گیس کی خطرناک خصوصیات سے ہوتا ہے۔

سیمیکمڈکٹر انڈسٹری میں عام گیسوں کی درجہ بندی

عام گیس

عام گیس کو بلک گیس بھی کہا جاتا ہے: اس سے مراد صنعتی گیس ہے جس میں طہارت کی ضرورت 5N سے کم ہے اور ایک بڑی پیداوار اور فروخت کا حجم ہے۔ اسے تیاری کے مختلف طریقوں کے مطابق ہوا سے علیحدگی گیس اور مصنوعی گیس میں تقسیم کیا جاسکتا ہے۔ ہائیڈروجن (H2) ، نائٹروجن (N2) ، آکسیجن (O2) ، ارگون (A2) ، وغیرہ۔

خصوصی گیس

خصوصی گیس سے مراد صنعتی گیس ہے جو مخصوص شعبوں میں استعمال ہوتی ہے اور اس میں طہارت ، مختلف قسم اور خصوصیات کے ل special خصوصی تقاضے ہوتے ہیں۔ بنیادی طور پرسیہ 4، پی ایچ 3 ، B2H6 ، A8H3 ،HCl، CF4 ،NH3، PoCl3 ، SIH2Cl2 ، SIHCl3 ،NH3, بی سی ایل 3، SIF4 ، CLF3 ، CO ، C2F6 ، N2O ، F2 ، HF ، HBR ،SF6… اور اسی طرح

اسپیشل گیسوں کی اقسام

خصوصی گیسوں کی اقسام: سنکنرن ، زہریلا ، آتش گیر ، دہن کی مدد کرنے ، غیر فعال ، وغیرہ۔
عام طور پر استعمال ہونے والی سیمیکمڈکٹر گیسوں کو درج ذیل درجہ بندی کیا جاتا ہے:
(i) سنکنرن/زہریلا:HCl、 BF3 、 WF6 、 HBR 、 SIH2CL2 、 NH3 、 PH3 、 CL2 、بی سی ایل 3... تو… کے بارے میں… کے بارے میں… کے.
(ii) آتش گیر: H2 、CH4、سیہ 4、 ph3 、 ash3 、 sih2cl2 、 b2h6 、 ch2f2 、 ch3f 、 co…
(iii) آتش گیر: O2 、 CL2 、 N2O 、 NF3…
(iv) inert: n2 、سی ایف 4、 C2F6 、C4F8、SF6、 CO2 、Ne、Kr、 وہ…

سیمیکمڈکٹر چپ مینوفیکچرنگ کے عمل میں ، آکسیکرن ، بازی ، جمع ، اینچنگ ، ​​انجیکشن ، فوٹو لیتھوگرافی اور دیگر عملوں میں ، اور عمل کے کل اقدامات سیکڑوں سے تجاوز کرتے ہیں۔ مثال کے طور پر ، پی ایچ 3 اور ایش 3 کو آئن امپلانٹیشن کے عمل میں فاسفورس اور آرسنک ذرائع کے طور پر استعمال کیا جاتا ہے ، ایف پر مبنی گیسیں سی ایف 4 ، سی ایف 3 ، ایس ایف 6 ، ایس ایف 6 اور ہالوجن گیسز سی آئی 2 ، بی سی آئی 3 ، ایچ بی آر کو عام طور پر اینچنگ کے عمل میں ، ایس آئی ایچ 4 ، این ایچ 3 ، این ایچ 3 ، این ایچ 3 ، این 2 نی ، ایف 2/کے آر/این ای ای میں استعمال کیا جاتا ہے۔

مذکورہ پہلوؤں سے ، ہم سمجھ سکتے ہیں کہ بہت سے سیمیکمڈکٹر گیسیں انسانی جسم کے لئے نقصان دہ ہیں۔ خاص طور پر ، کچھ گیسیں ، جیسے SIH4 ، خود ساختہ ہیں۔ جب تک وہ لیک کریں گے ، وہ ہوا میں آکسیجن کے ساتھ پرتشدد رد عمل کا اظہار کریں گے اور جلنے لگیں گے۔ اور ایش 3 انتہائی زہریلا ہے۔ کسی بھی معمولی رساو سے لوگوں کی زندگیوں کو نقصان پہنچ سکتا ہے ، لہذا خصوصی گیسوں کے استعمال کے لئے کنٹرول سسٹم ڈیزائن کی حفاظت کی ضروریات خاص طور پر زیادہ ہیں۔

سیمیکمڈکٹرز کو "تین ڈگری" کے ل high اعلی طہارت گیسوں کی ضرورت ہوتی ہے

گیس طہارت

گیس میں ناپاک ماحول کے مواد کو عام طور پر گیس طہارت کی فیصد کے طور پر ظاہر کیا جاتا ہے ، جیسے 99.9999 ٪۔ عام طور پر ، الیکٹرانک خصوصی گیسوں کے لئے طہارت کی ضرورت 5N-6n تک پہنچ جاتی ہے ، اور اس کا اظہار ناپاک ماحول کے مواد پی پی ایم (حصہ فی ملین) ، پی پی بی (حصہ فی ارب) ، اور پی پی ٹی (حصہ فی ٹریلین) کے حجم تناسب سے ہوتا ہے۔ الیکٹرانک سیمیکمڈکٹر فیلڈ میں خصوصی گیسوں کی پاکیزگی اور معیار کے استحکام کے لئے اعلی ترین ضروریات ہیں ، اور الیکٹرانک خصوصی گیسوں کی پاکیزگی عام طور پر 6n سے زیادہ ہے۔

سوھاپن

گیس ، یا گیلا پن میں ٹریس پانی کا مواد عام طور پر اوس پوائنٹ میں ظاہر کیا جاتا ہے ، جیسے وایمنڈلیی اوس پوائنٹ -70 ℃۔

صفائی

گیس میں آلودگی والے ذرات کی تعداد ، µm کے ذرہ سائز کے ذرات ، کتنے ذرات/M3 میں ظاہر کی جاتی ہے۔ کمپریسڈ ہوا کے ل it ، اس کا اظہار عام طور پر ناگزیر ٹھوس اوشیشوں کے ایم جی/ایم 3 میں کیا جاتا ہے ، جس میں تیل کا مواد بھی شامل ہے۔